受託製造Contract Manufacturing

製造用設備・分析機器一覧List of Manufacturing and Analytical Equipments

受託製造用設備 (GMP対応①)

機器種類 材質 容量 使用温度 備考
反応機 GL 300L -15~165℃
反応機 GL 500L -15~165℃
反応機* GL 500L -15~165℃
反応機 GL 800L -15~165℃
反応機 GL 1500L -15~165℃
一圧反応機 GL 50L -15~165℃
一圧反応機 GL 500L -15~165℃
一圧反応機 SUS316L 500L -15~165℃
滴下槽 GL 500L
遠心分離機 テフロンコート 30inch
遠心分離機* テフロンコート 30inch
加圧ろ過器 GL 300L ろ過面積:0.8m2
加圧ろ過器 SUS316L 40L ろ過面積:0.1m2
ろ過乾燥機 SUS316L 300L 常温~80℃ ろ過面積:0.4m2
コニカルドライヤー GL 1000L 常温~80℃
コニカルドライヤー* GL 500L 常温~80℃
パワーミル SUS316L
アトマイザー* SUS316L
篩過機* SUS316L
クリーンルーム クラス 100,000

*クリーンルーム内設置機器

受託製造用設備 (GMP対応②)

機器種類 材質 容量 使用温度 備考
反応機 GL 4000L -15~165℃
反応機 GL 4000L -5~150℃
一圧反応機 GL 3000L -15~165℃
滴下槽 GL 2500L -5~150℃
遠心分離機 テフロンコート 42inch
加圧ろ過器 テフロンコート 250L ろ過面積:0.8m2
ろ過乾燥機 SUS316L 2000L 常温~80℃ ろ過面積:1.5m2
コニカルドライヤー GL 3000L 常温~80℃

受託製造用設備 (化成品)

※複数プラントから主要機器抜粋

機器種類 材質 容量 使用温度 備考
反応機 GL 500L -10~150℃ 塩素導入設備付き
反応機 GL 1500L -10~150℃
晶析機 SUS316L 3000L -10~165℃
反応機 GL 2500L -10~150℃
反応機 GL 4000L -10~165℃ 塩素導入設備付き
反応機 GL 4000L 室温~165℃
反応機 GL 6000L -10~165℃
一圧反応機 GL 3000L -10~165℃
精留機 GL 5000L -10~165℃ 精留塔付き(ハニセラパック-s)
滴下槽 GL 800L
滴下槽 GL 1500L
遠心分離機 テフロンコート 42inch
加圧ろ過器 GL 300L ろ過面積:0.8m2
ろ過乾燥機 SUS316L 4000L 常温~80℃ ろ過面積:3m2
パワーミル SUS304

分析機器

クロマトグラフ
ガスクロマトグラフ FID
TCD
Head Space Sampler
液体クロマトグラフ UV
Photo Diode Array
RI
Fluorescence
質量分析計
ICP-MS
GC-MS
その他
NMR (400MHz)
FT-IR
原子吸光光度計
紫外可視分光光度計
プローブラマン分光装置
蛍光X線分析装置
カールフィッシャー水分計
自動滴定装置
融点測定装置